位:“仔细说说,我记得这个月应该有不少项目完工。”
见状,温叶翻开文件夹,有条不紊的汇报起来。
“这款服务器CPU采用了CB12指令架构,包含最新的Ex64指令集,在‘未竟’架构的基础上借鉴了部分‘初’架构,合理的设计了8个核心,采用中芯40纳米制程流片而成;
仅流片了一次,便成功通过实际验证;
不过各方面性能并不是很亮眼,但根据相关测试,大CPU项目组认为这样一款CPU,可以提供足够丰富的实测数据……”
听温叶停顿下来,方年晃晃手:“都说完吧。”
温叶轻轻点头,继续往下说:“上周五,贵阳数据中心一期土建工程通过验收,已经可以开始服务器机组的安装调试工作。”
“……”
“上周四神龙211流片通过,神龙511流片通过,性能不达标,在调整后将进行第二次流片……”
“……”
“晶圆测试线月初正式启动了试生产,光刻机的良率、稳定性等十分不理想,需要进行一定的调整;
据汇报,有望在下月进行65纳米制程试生产。”
似乎知道方年会有疑惑,说到这里,温叶特地补充了几句:“DUV浸入式光刻实际上一直可以支持到7纳米制程的光刻;
根据晶圆试验线的负责教授解释:
传统国际半导体技术蓝图定义光刻制程技术节点的是最小金属间距。
又根据一个瑞利公式:CD=K1×(λ/NA),降低波长λ,提高镜头的数值孔径NA,降低综合因素K1,即可不断演进光刻制程。
DUV激光光源从90年代末至今就一直是停滞在193nm波长;
不过有人提出了新的方案,一个工程上很简单的办法,在晶圆光刻胶上加1mm厚的水,水可以把193nm的光波长折射成134nm,再做到半周期65nm;
总之……
晶圆实验室的教授很有信心保证能在较短时间内突破至65纳米光刻,之后可能会漫长一点,但也不会是太久远的事情。”
一口气照本宣科的说完,温叶并未多停顿,继续解释。
“虽然梼杌实验室牵头的EUV光刻研发进展十分缓慢,但因为从欧美国家收购的各类技术等等;
对DUV光刻机的研发推动工作很有帮助。”
“……”
最后,温叶总结:“截止目前,就是这些项目有确切成果。”
“小谷负责的胜遇4G组网方案实际实验,还需要一点点时间,应该是在四月底能完成。”
听温叶完全说完后,方年稍作沉吟:“也就是说,梼杌一点都不重视的DUV光刻进展神速,去年最后一个季度投入了70亿,今年第一季度又投入十数亿的EUV进展龟速?”
“也可以这么理解。”温叶无奈回答,“国内无论
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